綜合避難所

Intel 18A首發High NA EUV工藝意義重大：技術領先台積電4年

2026-07-17 13:23:24

快科技7月17日消息，日前ASML在財報會議上出乎意料地宣佈了一個好消息——Intel的18A工藝已經率先量產了High NA EUV光刻工藝，這還是該技術的全球首次。

Intel確實是全球最早購買High NA EUV光刻機的，但Intel之前的路線圖中，只有到14A工藝節點才會應用該技術，後者2028年才會試產，2029年才會量產。

如今High NA EUV的量產提前了三年之多，確實讓人想不到，雖然該工藝只是在18A工藝的部分層中量產，還不會取代當前的low NA EUV光刻機。

那Intel率先量產High NA EUV技術有什麼意義？還真不是純粹作秀，Intel公佈的資訊顯示，High NA EUV光刻層的成本比當前的EUV成本還低，後者需要40多個步驟才能完成的曝光過程只需要用High NA EUV光刻機1次就能完成。

再往別的方面來看，Intel在18A工藝上就率先使用High NA EUV工藝生產，可以為下一代的14A工藝排雷，提前部署可以積累經驗，到了14A工藝大規模量產High NA EUV工藝的時候就能快速產能爬坡。

14A工藝對Intel來說可能比18A工藝還要重要，不光是技術迭代，14A是Intel爭取蘋果、Google、微軟、亞馬遜、Meta等公司代工訂單的核心一戰，這一代再拿不下大客戶的訂單，Intel在代工市場真的沒什麼機會了，哪怕美國政府再強制輸血也沒用。

此外，在High NA EUV工藝上，Intel也能完成對台積電的一次超越——過去十多年中Intel為什麼在先進工藝上落後，很多人不知道的是Intel之前對EUV量產的進度非常保守，一直希望用DUV+SAQP多重圖案之類的技術繼續迭代，結果被台積電用率先量產EUV工藝徹底趕超了。

如今風水輪流轉，台積電對High NA EUV光刻機意興闌珊，A12工藝之前都不會用，也就是2030年之前都不會量產High NA EUV工藝，而Intel這波量產直接提前了4年，實現了一次對台積電的技術領先。

至於雙方這次押注到底誰能笑到最後，現在說還為時過早，等著看吧。